Intel承認在EUV曝光上犯錯：當年太自信導致10奈米製程多次跳票，任由AMD坐大

最近幾年，台積電及三星在半導體工藝上超越了Intel，後者在14nm節點之前都是全球最先進的半導體公司，然而在10nm節點面臨各種困難，給了對手AMD可乘之機。

Intel在這個過程中是如何被超越的？CEO格爾辛格日前接受了採訪，特別提到了Intel在EUV曝光技術上的選擇錯誤。

在EUV技術研發上，Intel是全球重要推手，ASML研發EUV曝光機也得到了Intel的不少幫助，但是Intel在10nm節點沒有選擇EUV曝光，而是嘗試了新的SAQP四重曝光技術。當初Intel的目標是不依賴EUV曝光機，也能靠自力生產先進製程。

格爾辛格表示，當初這個目標是很好的，然而SAQP曝光工藝非常複雜，成本高，隨著時間的延續，Intel站在了EUV錯誤的一邊，格爾辛格表示，雞蛋不用放在同一個籃子裡，當時Intel應該至少有一個平行的EUV戰略才對。

格爾辛格所說的這個事，其實就是過去幾年中Intel在10nm製程上多次跳票的關鍵，這兩年才算是搞定了10nm的量產，現在改名為Intel 7。

至於EUV技術，Intel現在也重視起來了，跟ASML的合作很好，今年底量產的Intel 4就是Intel首個EUV技術產品，用於首發量產第14代Meteor Lake，明年上市。

10nm多次跳票順帶害了LG

值得一提的是，當年Intel在10nm製程上多次跳票，也順帶害了當年相信Intel代工的LG手機晶片。

在LG還有做手機的時候，當時原本爆料指出，LG 未來的 NUCLUN 晶片將採用英特爾 10nm 製程，搭載最新 A75 和 A55 CPU 核心。要知道，高通準備中的下一代旗艦驍龍 835 採用的是三星 10nm 工藝，但是英特爾的 10nm 技術更先進，密度和台積電、三星的 7nm 工藝相當。

然而這一次，英特爾不但辜負了 LG，同時也辜負了自己。因為製程技術難產，英特爾 10nm 製程連續跳票。

本來計畫 2015 年亮相的英特爾 10nm，先是延到 2019 年，再一度跳票又到了 2021 年底——現在的第 12 代處理器。在這期間，英特爾曾推出初代的 10nm 處理器 i3-8121U，但表現糟糕，上馬 10nm 的計畫不得不一拖再拖。

拉扯之間，LG 第三代手機晶片 NUCLUN 就此石沉大海。而不久之後，他們就宣布停止生產手機。