ASML:所有EUV客戶均訂購了下一代high-NA EUV曝光機,單價翻倍到122.5億

ASML:所有EUV客戶均訂購了下一代high-NA EUV曝光機,單價翻倍到122.5億

ASML正抓緊研製其下一代高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)曝光機,在發佈最新財報期間,AMSL透露,其存量EUV客戶均訂購了新一代裝置。具體來說,在Intel和台積電之後,三星、SK海力士、美光等也下單高high-NA EUV曝光機了。

儘管目前包括台積電、英特爾、SK海力士、美光等國際半導體大廠都陸續下修資本支出,然而對於曝光機的錢還是不能省。

像是台積電之前在2022年技術論壇時,研發資深副總經理米玉傑就表示,台積電將於2024年引進高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)曝光機,以協助客戶推動創新;英特爾則在更早之前也宣稱率先取得設備,預計2025年量產。

先前根據韓國媒體報導,三星集團將要下訂10台的高階製程需要用的ASML的極紫外光設備(EUV),預備未來在記憶體、晶圓代工產能可以擴大。畢竟景氣不好是一時的,未來的半導體產業依然還是一場裝備戰。

而高NA EUV曝光機允許加工更精密的半導體晶片,生產效率也更高,它也是2nm及更先進製程的必要條件。

根據韓國裝置商透露,現款EUV曝光機的訂貨價是2000~3000億韓元(約合49~74億元台幣),而高NA EUV曝光機的報價翻倍到了5000億韓元(約合122.5億元台幣)。

據瞭解,在三季度財報中,ASML完成58億歐元的淨銷售額,毛利率51.8%、淨利潤17億歐元,公司預計四季度淨銷售額在61~66億歐元之間。

CEO Peter Wennink表示,其三季度預訂產品的銷售額達到創紀錄的89億歐元,其中EUV裝置就有38億歐元。

 

cnBeta
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