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根據韓媒 ETNews、AJUNEWS 及 fnnews 報導,三星電子已在昨日(當地時間)獲得對其第六代 10 奈米級 DRAM 製程「1c nm」的量產準備批准(PRA),這代表該製程技術正式完成開發,將進入量產階段。
三星最新的 HBM4 12Hi 高頻寬記憶體即將採用 1c nm DRAM Die,而這項技術的量產進度預期將顯著影響三星半導體部門(DS部門)未來一至兩年的營收表現,備受市場關注。
在此之前,SK hynix 與 Micron 也分別完成第六代 20nm 至 10nm 級製程的 DRAM 技術開發,顯示三大記憶體原廠在邁向更先進的製程節點上持續競爭,正式逼近 10 奈米關口。
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隨著AI應用對高效能記憶體需求急速提升,DRAM 製程持續縮小將成為提升密度與效率的關鍵。而1c nm製程技術的推進,將成為記憶體產業競爭力與市佔率變化的重要轉捩點。
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