ASML下代EUV曝光機年底問世：1nm製程半導體工廠必備，一台售價破4億美元

在半導體技術進入7nm節點之後，EUV曝光機是少不了的關鍵裝置，目前只有ASML能製造，單台售價破台幣4億以上，今年底還會迎來下一代EUV曝光機，價格還會繼續大漲。

曝光機的解析度越高，越有利於製造更小的電晶體，而解析度也跟曝光機物鏡的NA數值孔徑有直接關係，目前的EUV曝光機是NA=0.33技術的，下代EUV曝光機則是提升到NA=0.55。

根據ASML公司高層日前透露的消息，NA=0.55的EUV曝光機今年底會出貨首個商用原型，2025年會正式量產。

他沒有公佈哪家公司會首發NA=0.55曝光機，但之前英特爾公司表示他們會率先使用下代EUV曝光機，已經巨資提前下單。

按照2025年出貨的時間點來看，台積電、英特爾、三星的2nm等級技術是趕不上的，最快也要到1.4nm工藝才能用上NA=0.55曝光機，未來生產1nm製程則是不可少的裝置。

伴隨技術提升的還有售價，由於更加複雜、精密，NA=0.55的EUV曝光機價格大幅上漲，具體多少不確定，此前消息稱不低於4億美元，是現在的2-3倍。

這還不排除未來正式商用的時候價格進一步上漲，畢竟還要好幾年才能上市。