Intel 重新定義晶片製程讓自己不再「低人一等」,除了降低行銷衝擊、也要對內施加壓力

Intel 重新定義晶片製程讓自己不再「低人一等」,除了降低行銷衝擊、也要對內施加壓力

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半導體大廠 Intel 在今天舉辦 Accelerated 加速日活動,最主要宣布即是大幅翻新產品製程的長期規劃,甚至還重新定義了下一世代的節點命名規則。

從外界的眼光來看,Intel 全面更新半導體製程的節點命名,似乎有點「打不過台積電就混淆視聽」的嫌疑,但從實際的產業角度分析,Intel 的行為其實具備兩大關鍵意義,甚至能還能藉此看出新任執行長 Pat Gelsinger 重新打造「藍色巨人」的決心。

重新包裝以降低行銷衝擊

攤開 Intel 對自家製程節點的全新 Road map,外界不難發現,所謂的「Intel 7」實際上就是「10nm Enhanced SuperFin」的重新命名,對應到台積電的 TSMC N5+(5 奈米+)製程;「Intel 4」則是過往的 Intel 7 奈米製程。

至於所謂的「Intel 20A」,雖然用上了「埃米」看起來很厲害,但事實上就是 Intel 過往所定義的「5nm」,對應到台積電的 TSMC N2(2 奈米)製程。

Intel 重新定義晶片製程讓自己不再「低人一等」,除了降低行銷衝擊、也要對內施加壓力

這次 Intel 重新命名過的製程節點,雖然比起過往更為細緻,且將半節點更新重新包裝為一個品牌,但卻也讓市場變得更加混亂。尤其,消費者未來將無法再透過直觀的名稱對照,把 Intel 的製程拿來其它對手進行比較。

將技術名詞與產品名稱脫鉤的策略,對於這家美國半導體大廠來說,事實上有著不少好處。

首先,在半導體製程進入 14 奈米時期之後,半導體廠商如台積電、三星、IBM 等等,雖然都有著共通的製程節點命名方式,但就實際產品狀況而言,不同公司間卻有著截然不同的定義。

以台積電跟 Intel 進行舉例,台積電 7 奈米製程的極限電晶體密度為 91.20 MTr/mm2,但 Intel 的 7 奈米則是 100.76  MTr/mm2,雙方有著相當程度上的差距。

各大半導體廠商製程定義,以及電晶體極限密度的交叉對照表。(圖片來源:Anandtech)

單純就製程名稱上的超前,讓台積電有了行銷面優勢,所以 Intel 過往也不只一次強調過,傳統命名方式早已無法切合電晶體本身的特性,消費者應該把重點擺在產品本身的效能增益。

此外,Intel 重新定義製程節點的名稱後,客戶也不需要多花心力,將 Intel 的產品跟外界進行比較,只要去明白 Intel 本身的定義方式與原則,尋找符合需求的解決方案即可,這對於 Intel 發展晶片代工業務來說,絕對有著顯著的幫助。

雖然不能否認現時身為技術落後方的 Intel,拋出重新命名的議題或許有些鴕鳥心態,但不同公司間的半導體製程早已有著巨大差異,卻也是業界難以忽視的事實。讓「技術名詞」跟「品牌行銷」互相分隔得更清楚,對於整個大環境而言應該是相對較好的做法。

對內施加製程開發壓力

另一方面,Intel 本次所發表的長期路線圖,事實上比起過往要來緊湊許多,對於內部開發團隊來說,絕對稱得上是一場嚴峻的挑戰,同時卻也能視為執行長 Pat Gelsinger,為了讓 Intel 追上甚至超前台積電,所展現出的堅毅決心。

官方計畫,自 Intel 7 過渡到 Intel 4 只需短短一年,從 Intel 4 過渡到 Intel 3 也僅有一年,而從 Intel 3 發展到 Intel 20A 同樣只有一年,而且每次升級的任務目標都十分明確。

換句話說,Intel 打算用三年時間,從 10 奈米製程飛越到 5 奈米製程,如此密集且高頻率的更新,加上跨越三個完整節點的升級幅度,令外界感到十分震撼,對 Intel 開發團隊更有著極大的時間壓力。

Intel 重新定義晶片製程讓自己不再「低人一等」,除了降低行銷衝擊、也要對內施加壓力

Intel 選擇將製程的更新腳步拉得更緊、目標更顯著,配合半節點升級包裝成新品牌推出,稱得上對內、對外都傑出的兩面手法,一來不僅給予消費者 Intel 正在進步的感覺,同時若技術團隊確實達成任務,也能夠產生成就與回饋感。

只不過,雖然 Intel 拋出如此緊湊的路線圖,但對於從 14 奈米進步到 10 奈米,就花了不知道多少時間的 Intel 來說,這樣的 Road map 到底能不能順利成真,多少令人感到懷疑。

Pat Gelsinger 選擇將時間壓力拋給製造工廠,或許也是改革 Intel 內部的必要手段,畢竟如果不加緊開發的腳步,Intel 只會於半導體製程上持續落後,更別提重新回到領頭羊的地位。

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