ASML 全力擴產 EUV！年產目標衝破 60 台，AI 熱潮帶動先進製程設備需求

荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）正以前所未有的速度擴大其極紫外光（EUV）曝光系統的產能。為了滿足全球因 AI 算力需求井噴而產生的先進晶片訂單，ASML 宣布今年預計生產至少 60 台 EUV 設備，相較於 2025 年成長了 36%。這不僅僅是產量的提升，更代表了 ASML 在全球晶片製造版圖中不可替代的戰略地位。

這波產能擴張的背後，是輝達（NVIDIA）、台積電等龍頭企業持續加碼 AI 基礎設施的具體體現。ASML 除了增加整機產出，也在同步優化設備的處理效率（吞吐量），確保每小時能處理更多的矽晶圓。儘管 EUV 系統是當今世界上最複雜的工業機器，每台組裝周期長達數月，且極度依賴龐大的全球供應鏈，但 ASML 顯然已將其生產節奏調整至「戰時狀態」以追趕訂單。

緩解瓶頸：全球潔淨室擴建與人才招募同步啟動

為了應對擴產帶來的壓力，ASML 已在美國、德國及韓國等多個關鍵據點擴充潔淨室產能，並計畫在荷蘭總部興建全新園區。今年的資本支出預計將攀資至 22 億美元，用於房地產與基礎建設的投資。同時，公司也正積極在全球範圍內招聘與培訓工程師。然而，荷蘭本地的勞動力短缺以及極度複雜的組裝流程，依然是 ASML 必須克服的現實挑戰。

在供應鏈管理方面，ASML 的高層已直接介入供應商的協調工作。畢竟 EUV 設備由超過十萬個精密零件組成，任何一個關鍵部件的缺席都可能導致整機交付停滯。透過更緊密的供應鏈聯動，ASML 試圖將產能瓶頸降到最低。而在技術更迭上，雖然下一代 High-NA（高數值孔徑）EUV 系統因成本激增讓部分客戶觀望，但 ASML 透過提供現有平台的升級方案，成功延長了現有設備的性能壽命，維持了市場的穩定。

ASML 這次調高全年銷售預期至最高 470 億美元，反映出一個殘酷的現實：誰掌握了這台「刻刀」，誰就掌握了 AI 時代的發言權。儘管地緣政治的出口限制與全球電力供應限制為擴產蒙上陰影，但 ASML 的全大核技術佈局與算力主權策略，使其依然穩坐釣魚台。

我們觀察到，這場產能競賽的本質是「時間與效率」的博弈。當晶片設計持續微縮，ASML 的光源技術研發將成為維持產業進步的唯一關鍵。然而，當 High-NA 系統的單台售價飆升，連頂尖晶圓廠都開始猶豫時，ASML 是否能持續維持其毛利優勢，將取決於其如何協助客戶在「效能增長」與「巨額成本」之間取得新的平衡。這不只是設備商的擴產計畫，更是全球科技主權的一次大規模調度。