ASML全新曝光機準備中：Intel提前鎖定，衝擊2奈米技術關鍵

對於晶片廠商而言，曝光機顯得至關重要，而ASML也在積極布局新的技術。據外媒報導稱，截至 2022 年第一季度，ASML已出貨136個EUV系統，約曝光7000萬個晶圓已曝光。按照官方的說法，新型號的EUV曝光機系統 NXE:3600D將能達到93%的可用性，這將讓其進一步接近DUV曝光機（95%的可用性）。

資料顯示，NXE:3600D系統每小時可生產160個晶圓 (wph)，速度為30mJ/cm，這比 NXE:3400C高18%。二正在開發的 NXE:3800E系統最初將以30mJ/cm的速度提供大過195wph的產能，並在吞吐量升級後達到220wph。

據介紹，NXE:3600E 將在像差、重疊和吞吐量方面進行漸進式光學改進，而在0.33 NA的EUV曝光機領域，ASML路線圖包括到2025年左右推出吞吐量約為220wph的NXE:4000F。

根據ASML 在一季度財務會議上披露的資料，公司的目標是在2022年出貨55台EUV系統，並到2025年實現（最多）90台工具的計畫。ASML同時還承認， 90台可能超過2025年的實際需求，不過他們將其描述為為滿足2030年1萬億美元半導體行業需求所做出的巨大努力。

按照之前的說法，ASML正在研發新款曝光機，價值高達4億美元，雙層巴士大、重超200噸。原型機預計2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力出貨。

這款機器應該指的就是High-NA EXE:5200（0.55NA），Intel是全球第一個下單的公司。所謂High-NA也就是高數值孔徑，2nm之後的節點都得依賴它實現。