Intel CEO:美國政府再不通過520億美元晶片補助,就要去歐洲擴大建晶片廠

Intel CEO:美國政府再不通過520億美元晶片補助,就要去歐洲擴大建晶片廠

Intel CEO格爾辛格去年2月份上任之後推出了雄心勃勃的IDM 2.0戰略,希望通過大舉投資重新奪回被三星台積電領先的半導體地位,其中一個重要內容就是在美國投資200億美元建設2座新的晶圓廠。

然而,這個在美國俄亥俄州建廠的計畫目前被Intel延期了,主要原因就是美國520億美元的晶片補貼法案遲遲不能落實,Intel希望獲得大量補貼以降低晶片廠的成本。

Intel CEO 格爾辛格28日在阿斯彭思想節(Aspen Ideas Festival)的小組討論會上表示,如果美國國會不能批准“晶片法案”(CHIPS)中承諾的520億美元的晶片製造政府補助,Intel可能會在歐洲而不是美國擴大晶片生產。

格爾辛格在討論會上說,「我討厭宣佈延後」。他聲稱Intel想先在俄亥俄州「做大」,但如果沒有資金,Intel最終會因此在歐洲投資更多。

Intel已經計畫投入約350億美元來擴大其在歐盟的生產,包括在德國新建價值180億美元的設施。

格爾辛格還評論說,這個行業「不是在尋求施捨」,晶片法案的補助將使美國具有與世界其他地區相比差不多的競爭力。

 

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