英特爾開始在愛爾蘭工廠使用EUV量產4奈米晶片，高呼這將是趕上台積電的「里程碑」

英特爾表示，其投資185億美元的愛爾蘭工廠已開始使用極紫外線(EUV)曝光機進行批次生產，並稱這是他們在晶片製造上的一個「里程碑」，因為該公司正尋求從競爭對手那裡奪回優勢。

英特爾曾是全球領先的晶片製造商，但在競爭中逐漸落後於台積電。但該公司表示，憑藉製造技術，它有望奪回領先地位，並表示將與台積電的最佳技術相媲美。

英特爾技術開發總經理安·凱萊赫(Ann Kelleher)表示，該公司正在按計畫實現這一目標，目前已經完成了兩項製造技術，第三項「即將完成」進展非常順利。

這座工廠位於都柏林郊外的萊克利普鎮，是英特爾使用EUV批次生產Intel 4的首個生產基地。該技術將用於生產即將推出的筆電晶片Meteor Lake，這將為人工智慧PC的出現鋪平道路。

EUV曝光機由荷蘭製造商ASML製造，和一輛公共汽車一樣大，每台成本約為1.5億美元。目前愛爾蘭工廠裡共有7台，頭頂上方有源源不斷的機器人，每台的成本相當於一輛普通的BMW 汽車，沿著22公里的軌道快速地將矽片從一個工具運送到另一個工具上。

凱萊赫表示，英特爾預計將於今年晚些時候在俄勒岡州接收其第一台下一代極紫外曝光機，即High-NA EUV。該公司表示，它將是第一家獲得這款機器的晶片製造商，這款機器也是由ASML製造。

英特爾通常在俄勒岡州波特蘭市希爾斯伯勒郊區的一個研發基地完成新的製造流程，然後將製造範本輸出到其他基地。

除了在愛爾蘭的工廠，英特爾還計畫在德國建立一個大型晶片工廠，並在波蘭建立一個半導體組裝和測試工廠。

隨著歐盟尋求減少對美國和亞洲供應的依賴，這些新工廠將受益於歐盟寬鬆的融資規則和補貼。

在愛爾蘭工廠的開幕儀式上，英特爾首席執行長帕特·表示這是（Pat Gelsinger）稱這是「歐洲最好的一天」。