傳中芯國際正在用DUV打造5奈米技術，良品率大約僅30-40%成本高昂

目前中芯國際最進步的製程為 7 奈米，但一份新的報告指出，中芯國際正在推進其 5 奈米技術。然而，與台積電等使用先進的超紫外光（EUV）裝置的製造商相比，中芯國際被迫在其現有的 DUV 裝置上批次生產這些晶圓，這對該公司來說很可能是一項成本高昂的冒險。

中芯國際據傳從中國政府獲得價值數十億美元的補貼，從而成功推進其 5 奈米技術；不過目前尚不清楚是否預計產量。

華為預計將在明年推出 P70、P70 Pro 和 P70 Art，因此這家前中國巨頭需要在先進晶片方面保持市場競爭力。儘管麒麟 9000S 是一款 7nm SoC，但由於美國對華為和中芯國際的制裁，它仍被認為是一項突破性成就。

據 The Elec 報導，一位不願透露姓名的行業人士表示，深紫外技術 (DUV) 的零件供應目前跟不上中國的需求，預計這一特殊市場將進一步擴大。此外，他還提到中芯國際正在準備通過 DUV 實現 5 奈米技術，這會使得光照的使用量有望進一步增加。

中國半導體產業發展引發的半導體光罩短缺正蔓延到空白光罩領域。空白光罩是光罩的原材料。業內人士認為，這種現象可能會延伸到光罩的保護成分--膠粒。

據業內人士 6 日透露，國內用於曝光工藝的部件製造商正在經歷繁榮。空白光罩公司 S&S Tech 今年第三季度的累計銷售額達到 1009 億韓元。與去年同期相比增長了 20.4%。該公司用於曝光的部件銷售額也有所增長。今年第三季度，FST 的光罩累計銷售額為 700 億韓元，比去年同期增長 5.3%。

空白光罩是光罩的原材料，最近一直供不應求。它的製作方法是在高純度石英上沉積金屬遮蔽膜和防反射膜，然後塗上感光溶液。光罩是通過在其上雕刻半導體電路圖案製成的。

膠層是光罩的保護部分。通過涂敷膠層，可以縮短光罩的更換週期，從而降低加工成本，提高生產率。

造成日益短缺的原因很複雜。除了中國無晶圓廠公司的數量不斷增加（截至去年已達 3243 家）之外，中國光罩公司缺乏技術以及採用 DUV 的 7 奈米工藝也是原因之一。

一位業內人士說：中國光罩廠生產的產品，品質低於 TOPPAN 和 DNP，因此我們需要使用更多的空白光罩和光阻劑。在採用 DUV 的 7nm 生產中，與 EUV 相比需要大量的光罩，由於中芯國際正在準備採用 DUV 的 5nm技術，預計光罩的使用量會進一步增加。"

業內人士分析，在可預見的未來，這種情況可能會持續下去。這是因為關鍵技術掌握在日本、美國和韓國的公司手中。光阻劑也是如此。Pellicle 由日本公司信越（Shin-Etsu）、旭（Asahi）和三井（Mitsui）以及韓國公司 FST 生產。上個月，FST 宣佈投資 330 億韓元，擴大其生產能力。

由於美國禁止荷蘭的 ASML 等公司向中國供應下一代 EUV 機器，中芯國際別無選擇，只能使用 DUV 裝置繼續 5 奈米製程。一位前台積電（TSMC）高層表示，華為和中芯國際都有可能製造出 5 奈米 SoC，但在現有裝置下，這將耗費大量時間，產量較低，而且成本高昂。

報告沒有深入探討中芯國際 5 奈米使用當前 DUV 硬體的預期良品率，但預計應該在 30% 至 40% 之間。 

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