EUV曝光機將有競爭者？佳能最新晶片曝光裝置所需費用將比ASML「少一個零」

佳能宣佈將在日本東部栃木縣新建一座半導體裝置廠，目標將當前產能提高一倍，總投資額超過500億日元（約3.45億美元），計畫在2023年動工，2025年春季開始營運。據日經新聞報導，佳能計畫提高曝光機產量，還將考慮生產能夠以低成本製造尖端精細電路的下一代系統。

目前佳能在日本的兩家工廠生產相關裝置，可用於汽車控制系統等應用的晶片製造。新工廠將建在現有工廠基礎上，這是佳能21年來建造的第一座曝光裝置新工廠。

佳能計畫將其新型晶片製造裝置的定價定在ASML最佳曝光機成本的一小部分，尋求在尖端裝置領域取得進展。佳能此前推出了奈米壓印Nano Imprint Lithography (NIL) 半導體製造系統，試圖通過將該技術定位為比現有最先進工具更簡便、更易獲取的曝光替代方案，來重振其市場地位。

佳能的新型晶片製造機器可以利用極紫外曝光（EUV）技術，生產相當於5奈米規模的電路，這一領域由行業領導者ASML壟斷。佳能預計，隨著技術的持續進步和最佳化，其裝置將有望實現下一代2奈米的生產水平。

佳能 CEO Fujio Mitarai表示，該公司的新奈米壓印技術將可以讓小型半導體製造商生產先進晶片開闢一條道路，目前這種技術幾乎完全屬於該行業最大的公司。至於所需要的費用，Mitarai表示，「這款產品的價格將比ASML的EUV裝置"少一個零"」但他表示最終的定價決定還沒有做出。

ASML是EUV工具的唯一供應商，這種裝置是世界上最先進的晶片製造機器，每台價值數億美元。只有少數現金充裕的公司有能力投資於這些工具，這些工具目前正因其在科技供應鏈中的關鍵地位而受到審查。在美國向其盟友施壓，要求其限制技術流向中國之後，ASML被禁止向中國客戶出口EUV系統。這給佳能上個月上市的新工具帶來了希望。今年7月，日本擴大了對晶片製造出口的限制，但沒有明確提到奈米壓印曝光技術。

但Mitarai表示，佳能可能無法將這些機器運往中國。「我的理解是，14奈米技術以上的任何產品都是禁止出口的，所以我認為我們賣不出去。」日本經濟產業省一位官員表示，他無法評論出口限制將如何影響某家公司或產品。

佳能與Dai Nippon Printing Co.和儲存晶片製造商鎧俠合作研究奈米壓印工藝已有近十年的時間。與通過反射光工作的極紫外曝光技術不同，佳能的技術將電路圖案直接印在晶圓上，從而製造出據稱與最先進節點相當的幾何形狀的晶片，儘管速度要慢得多。

這台新機器讓晶片製造商可以選擇降低對代工廠的依賴，同時也讓台積電和三星電子等代工晶片製造商更有可能批次生產晶片。佳能表示，這種機器所需的功率只有其EUV同類產品的十分之一。

Mitarai表示:「我不認為奈米壓印技術會取代EUV，但我相信這將創造新的機會和需求。」「我們已經收到了很多客戶的諮詢。」

佳能此前一直專注於製造不太先進的晶片，2014年開始押注於奈米印記技術，收購了Molecular imprint Inc.。作為台積電的供應商之一，佳能正在東京北部的宇都宮建設其20年來的第一家曝光裝置新工廠，將於2025年投產。