ASML首款第二代 2 奈米製程曝光機出貨，價格約新台幣 134 億元

全球半導體產業的目光，近日聚焦在曝光機龍頭 艾司摩爾（ASML） 的一項重大進展。ASML 正式宣布，旗下最新、效能最強的曝光機「第二代 High NA EUV」— 型號 EXE:5200 — 已經成功出貨。這款堪稱半導體製造核心的設備，不僅象徵著晶片微縮技術的再次突破，更預示著 2 奈米甚至未來更先進製程的量產時代即將來臨。而首批獲得這項頂尖技術的，正是英特爾。

曝光機大躍進：2 奈米製程的關鍵推手

曝光機在半導體製造過程中扮演著舉足輕重的角色，它利用光學原理將電路圖案蝕刻到晶圓上，是決定晶片製程精細度的關鍵。EXE:5200 作為 ASML 初代 High NA EUV 曝光機 EXE:5000 的升級版，在多項技術規格上都有顯著提升。最引人注目的是其更高的晶圓處理量，相較於 EXE:5000 每小時可處理 185 片以上晶圓的速度，EXE:5200 能更有效地提高生產效率，為 2 奈米製程的商業化量產提供強大支援。

此外，EXE:5200 與其前身 EXE:5000 都搭載了 0.55 的數值孔徑（Numerical Aperture），這比前一代 EUV 曝光機的 0.33 數值孔徑透鏡有著更高的精度。這意味著曝光機能夠實現更精細的解析度，進而刻畫出更微小的電晶體結構，這對於追求極致效能和低功耗的先進晶片來說至關重要。ASML 表示，EUV 0.55 NA 的設計目標是從 2025 年開始，逐步實現多個未來技術節點的生產，這將是業界首度應用此技術，未來也將擴展到記憶體等其他領域。

這款頂尖曝光機的售價也相當驚人，每台要價約莫新台幣 134 億元，足見其技術含量與稀缺性。然而，這類高精密設備的出口並非僅僅是市場供需問題。ASML 作為全球曝光機市場的主導者，其產品銷售受到嚴格的國際出口管制，特別是針對中國。這不僅是商業考量，更牽涉到複雜的地緣政治與國家安全因素。