EUV 曝光關鍵技術揭露，ASML 冠軍地位背後少不了這間公司

當大家把目光都放在「晶片設備霸主」ASML 身上時，很少人知道，真正能讓極紫外光（EUV）曝光機運作的關鍵技術，並不來自 ASML 本身，而是一家低調的德國企業——蔡司（ZEISS）。

這家以相機鏡頭、光學鏡片聞名的老牌公司，其實才是全球先進製程的靈魂角色。沒有蔡司，ASML 再強也做不出 EUV 曝光機！

全球唯一的 EUV 供應鏈秘密曝光

ASML 雖是目前唯一能量產 EUV 曝光設備的公司，但實際上，它更像是個「攢局者」，將來自全球各地的關鍵技術整合起來，而最無法取代的一環，就是蔡司所提供的光學系統。

EUV 曝光所需的高精度反射鏡與透鏡，目前全世界只有蔡司能做出來，而且精密程度高到近乎瘋狂：鏡面必須達到原子級平整，等於把整個德國的地形誤差控制在 1 公釐內。

許多人以為蔡司只是個相機鏡頭品牌，但這家擁有 175 年歷史的光學巨頭，早已是半導體設備產業鏈中的「隱形冠軍」。它所提供的光學模組，涵蓋所有 DUV、EUV 曝光機，甚至全球 80% 的晶片製造都用到了蔡司的光學元件。

為了鞏固合作，ASML 和蔡司甚至共同設立了一家合資的半導體光學公司，雙方工程師互相駐點、協同設計，達成幾乎無法複製的技術共生體系。

有分析指出，如果其他公司想自行打造這樣一套供應鏈，至少要砸下 200 億歐元、花上 10 年，且未必能成功。

隨著製程進入 3 奈米以下時代，蔡司正積極研發多層反射膜、AI 光學優化系統等新技術，準備挑戰更嚴苛的物理限制。這家企業從不愛曝光，也鮮少上媒體頭條，但在全球晶片產業鏈中，它的角色不容忽視。

當大家還在討論 ASML 多厲害的時候，別忘了，它背後那顆精準到令人窒息的「眼睛」，其實是蔡司做出來的。