Nikon創立以來最差財報，去年巨虧850億！曝光機只賣9台：拒絕台積電提案、錯失浸潤式技術成致命傷

日本光學巨頭 Nikon 預估 2025 財年將面臨高達 850 億日圓（約新台幣 178 億元）的巨額虧損，創下自 1917 年創立以來的百年最差紀錄。過去半年，Nikon 僅僅出貨 9 台成熟製程的老款曝光機，顯示這家昔日與 Intel 深度綁定、制定業界標準的半導體設備王者，如今在先進製程領域已幾乎失去競爭力。對比之下，ASML 在 2025 年狂賣 327 台設備，其中高階 EUV 曝光機就佔了 48 台，徹底壟斷全球高階市場。

錯失浸潤式技術與過度依賴單一客戶

Nikon 從巔峰跌落並非一朝一夕，關鍵轉折點發生在 2002 年。當時台積電前高層林本堅提出了顛覆性的浸潤式曝光構想，利用水的折射率來縮短光源波長。但 Nikon 考量到先前在 157 奈米乾式技術已投入數億美元（約新台幣 320 億元以上），高層不僅拒絕這項提議，甚至試圖利用行業威望封殺這個構想。

反觀當時在夾縫中求生的 ASML 選擇全力押注，2004 年與台積電合作推出世界上第一台浸潤式曝光機，一舉逆轉戰局，到了 2010 年後市佔率更是突破 70% 。

此外，Nikon 在市場策略上過於依賴 Intel 單一巨頭。當 Intel 在 2024 年因虧損大幅削減資本支出時，Nikon 的訂單也跟著崩盤。加上配合美國的出口管制，Nikon 放棄了佔比一度超過四成的最大救命稻草中華人民共和國市場，導致 2025 年 9 月不得不關閉營運 58 年的橫濱工廠，徹底陷入財務泥潭。

閉門造車的 EUV 敗局與 Canon 的另類求生

在浸潤式技術慘敗後，Nikon 試圖靠著極紫外光（EUV）技術重返巔峰。他們聯合日本政府與本土企業組成聯合體，堅持核心零組件全部自行研發的垂直整合模式。然而，EUV 技術極度複雜，Nikon 燒了超過 1000 億日圓（約新台幣 210 億元），到了 2018 年依然只有無法商用的原型機。而 ASML 則採取利益綁定策略，接受台積電、Intel 與三星的戰略投資，並聯合全球頂尖供應商，成功建立沒有替代品的技術霸權。

眼看 ASML 稱王，另一家日本大廠 Canon 則選擇偏安一隅。Canon 專注於成熟製程市場，並投資研發成本僅 EUV 十分之ㄧ的奈米壓印技術（NIL）。雖然這項技術目前仍有模板壽命與缺陷複製的瓶頸，但 Canon 持續投入，並在 2026 年初宣布開發出突破性的晶圓平坦化技術，預計 2027 年商用，試圖在巨頭壟斷的夾縫中尋求生存空間。

半導體設備戰場規則已變

Nikon 的衰敗印證了一件事：在顛覆性技術面前，過往的成功經驗往往是最大的包袱。日本企業引以為傲的全自研精神，在需要全球高度協作的時代反而成了阻礙創新的致命傷。如今，ASML 已經著手跨足先進封裝設備市場，準備包辦晶片製造的前後段流程。這也宣告了未來的半導體設備競爭將升級為全系統的戰役，在這場由資本與技術驅動的淘汰賽中，只有懂得擁抱開放與變革的企業，才能拿到通往未來的門票。