誰說只能靠 ASML？日本 DNP 開發奈米壓印新技術，號稱可取代 EUV 曝光機

雖然在 EUV 曝光機領域暫時落後，但日本作為全球第二大曝光機供應商，近年來正全力開發可替代 EUV 的光學方案，並將賭注壓在「NIL 奈米壓印技術」上 。繼佳能（Canon）、尼康（Nikon）之後，日本 DNP 公司（大日本印刷株式會社）近期宣布成功開發出 10nm 的 NIL 奈米壓印技術，能將電路圖直接「印」在基板上 。該公司表示，這項技術未來可用於 1.4nm 製程的邏輯晶片生產 。

功耗僅主流製程 1/10！SADP 技術達成倍增精度

在技術層面上，DNP 研發的 10nm 奈米壓印技術採用了 SADP（自對準雙重圖案化）技術 。透過一次曝光加上兩次圖案成形，能夠製造出雙倍精度的晶片，完全滿足先進製程邏輯晶片的需求 。

除了高精度，這項技術最具競爭力的地方在於節能優勢 。DNP 指出，奈米壓印的能耗僅為當前主流製程的 1/10 左右，對於追求低碳排與節能的現代晶片製造業來說，極具吸引力 。

研發二十年磨一劍！預計 2027 年正式量產

DNP 公司在 NIL 技術領域已經深耕超過 20 年 。目前的技術水準已能部分替代昂貴的 EUV 曝光機，為晶片製造商提供另一種高精度、低成本的生產選擇 。

目前 DNP 已開始與硬體供應商合作啟動技術評估，計畫在完成客戶驗證並建立穩定的供應體系後，預計於 2027 年開始量產出貨 。

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