ASML 預計 2027 年交付 66 台 EUV 曝光機，High-NA 版本單價高達 3.8 億美元

荷蘭半導體設備大廠 ASML 預告，2027 年將交付 56 台 Low-NA EUV（極紫外光）設備與 10 台 High-NA EUV 設備，這個出貨量比先前預期還高出不少，顯示市場對先進製程需求持續升溫。

由於 EUV 曝光機的交貨期通常長達一年以上，許多晶圓廠都得提前幾年下單。根據 ASML 公布的資料，目前根據現有訂單與需求估算，2027 年的 Low-NA EUV 出貨量將達 56 台，其中：

Intel：5 台
Samsung（三星）：7 台
SK hynix（SK 海力士）：高達 20 台

韓國媒體指出，SK 海力士計畫未來兩年內部署這 20 台 Low-NA EUV 設備，主要用於 HBM（高頻寬記憶體）與其他先進儲存解決方案的製造。

High-NA EUV 曝光機單價驚人，Intel、SK 海力士積極導入

在 High-NA EUV 部分，ASML 預計交付 10 台，每台單價約為 3.8 億美元（約新台幣 124 億元）。Intel 預計會將這些高階設備導入旗下 14A 製程節點，SK 海力士則會部署 2 台於儲存事業線。

Intel 對 High-NA EUV 可說是「砸錢不手軟」，不僅快速擴建設備陣列，還在製程上取得突破：

每季晶圓處理量可超過 3 萬片
單層晶圓製程步驟從原本的 40 道壓縮至 10 道以內
製造週期大幅縮短

而三星在相關應用上也展現實力，有部分場景的生產周期縮短了 60%。

韓廠擴廠計畫呼之欲出，Low-NA 設備仍是重點投資方向

雖然 Intel 在 High-NA EUV 上起步較早，但三星與 SK 海力士明顯加快腳步，勢要縮短差距。值得注意的是，Low-NA EUV 依然是市場主力需求，根據最新消息，SK 海力士接下來兩年還將再買進 20 台 Low-NA EUV 設備，換句話說，他們平均每年將安裝 10 台，並配合擴建韓國本土的大型晶圓廠房。