asml 的最新熱門文章
新聞
Intel率先導入High-NA EUV曝光機，加速14A製程研發。High-NA EUV技術提升晶片精度，助力Intel重返領先地位，備受矚目。
新聞
中國科學家在EUV曝光機研發上取得進展，目標是半導體自主。EUV曝光機的成功研發，或將加速中國半導體產業的發展，值得關注。
新聞
Intel位於美國亞利桑那州錢德勒市的Fab 52晶圓廠肩負Intel 18A製程節點製造的重責大任，讓我們走進廠內看看晶圓廠究竟長怎麼樣。
新聞
ASML預計2027年交付大量EUV設備，其中SK海力士積極擴充Low-NA EUV產能，顯示市場對先進製程及EUV設備的強勁需求。
新聞
ASML 攜手蔡司研發 Hyper NA EUV 曝光機，挑戰 5 奈米解析度。這款 Hyper NA EUV 曝光機將助力 2035 年後的先進製程發展，引領半導體技術革新。
新聞
探索晶片製造的未來：深入了解 ASML 的 EUV 光刻技術如何引領晶片微型化，以及佳能的奈米壓印技術如何挑戰現狀。分析兩種技術的原理、優勢與挑戰，展望晶片技術的發展趨勢。
