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日本DNP公司成功開發10nm NIL 奈米壓印技術，為先進製程帶來新選擇。此奈米壓印技術不僅精度高，且能耗僅為主流製程的1/10，預計2027年量產。

截至目前，ASML 僅出貨了 5 台 High-NA EUV 曝光機，客戶包括 Intel、三星等，台積電仍處觀望態度。