打臉英特爾?台積電高層表示將在2024年引入ASML最新極紫外曝光機

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台積電高層週四表示,該公司將在2024年引入荷蘭廠商ASML的最新一代曝光機。台積電研發高級副總裁米玉傑在矽谷舉行的技術研討會上表示,「展望未來,台積電將在2024年引入高數值孔徑的極紫外曝光機,為的是開發客戶所需相關基礎設施和模式解決方案,進一步推動創新。」

打臉英特爾?台積電高層表示將在2024年引入ASML最新極紫外曝光機

米玉傑並未透露新一代曝光機引入後何時用於大規模生產晶片。ASML推出的第二代極紫外線曝光機能用於製造尺寸更小、處理速度更快的晶片。

不過,台積電競爭對手英特爾公司此前表示,將在2025年之前開始使用新一代曝光機生產晶片,並表示自己將是第一個收到最新款曝光機的公司。因此台積電這樣的說法,似乎讓英特爾的面子有點掛不住。

打臉英特爾?台積電高層表示將在2024年引入ASML最新極紫外曝光機

隨著英特爾打入晶片代工市場,將開始與台積電爭奪客戶。業界正密切關注哪家公司會在開發下一代晶片技術上擁有更多優勢。 

台積電業務發展高級副總裁Kevin Zhang後來澄清說,台積電在2024年不會用新一代曝光機生產晶片,其主要會把曝光機用於與合作夥伴共同開展研究。

打臉英特爾?台積電高層表示將在2024年引入ASML最新極紫外曝光機

參加此次研討會的晶片經濟學家丹·哈奇森(Dan Hutcheson)表示:「台積電在2024年引入新一代曝光機的重要性意味著,他們可以更快獲得最先進的技術。」「極紫外曝光技術對於晶片企業能否處於業內領先地位已經變得非常關鍵……高數值孔徑極紫外曝光技術是該領域的下一個重大創新,將使晶片技術處於領先水平。」

NetEase
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