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英特爾代工業務迎來里程碑，關鍵的 18A 製程缺陷密度降至 0.1，標誌著良率取得大突破。隨著 18A 製程邁向穩態量產，英特爾成功攻克技術瓶頸並啟動大規模產能爬坡，展現重返半導體製造顛峰

Intel率先導入High-NA EUV曝光機，加速14A製程研發。High-NA EUV技術提升晶片精度，助力Intel重返領先地位，備受矚目。

英特爾14A製程傳捷報，效能與良率超越預期，將成晶圓代工市場利器。14A製程導入新技術，有望加速英特爾擴展晶圓代工業務版圖，重塑產業格局。