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面對AI算力井噴式需求，ASML正以前所未有的速度擴大其EUV光刻系統產能。ASML的EUV設備是先進晶片製造的關鍵，這場擴產競賽不僅關乎ASML的未來，更決定全球AI時代的科技主導權。

英特爾（Intel）已向艾司摩爾（ASML）下訂業界首台 TWINSCAN EXE:5200 High-NA 極紫外光（EUV）曝光機大量生產系統，每小時將具備 200 片以上晶圓產能。